2.5D封装迈向3.5D:良率成关键
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AI 综述
2026年10月13日,SemiAnalysis发文指出,随着interposer和substrate接近缩放极限,2.5D封装正迈向3.5D。3.5D封装通过更紧密的D2D pitch、更高带宽密度和更低每bit能耗,来突破reticle对横向扩展的限制。SemiAnalysis强调,在这一演进过程中,良率成为关键因素。
报道时间线
10月13日
- SemiAnalysis:2.5D 封装迈向 3.5D,良率成关键
SemiAnalysis 指出,随着 interposer 和 substrate 接近缩放极限,2.5D 封装正迈向 3.5D,通过更紧密的 D2D pitch、更高带宽密度和更低每 bit 能耗来突破 reticle 对横向扩展的限制。
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